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工商時報【涂志豪╱台北報導】

半導體先進製程大戰開打，包括英特爾、台積電、三星等大廠將在2018年開始跨入極紫外光（EUV）微影世代，誰能在EUV技術上取得領先地位，將成為7奈米及5奈米的市場新霸主。

設備廠家登（36貞操帶 sm80）布局極紫外光光罩傳送盒（EUV POD）多年，並於農曆年前再次通過微影設備大廠艾司摩爾（ASML）EUV機台測試，結果證明家登已取得EUV市場入場門票。

艾司摩爾先前公告去年第四季財報優於預期，EUV機台已接單未出貨（backlog）數量已達18台，營收規模已達20億歐元。艾司摩爾指出，客戶端將在7奈米邏輯製程及1y奈米DRAM製程開始採用EUV技術，而預估2017年EUV技術目標是要達到每天曝光晶圓數達3000片的量產規模，機台可使用率超過9成，可在2018年達到客戶量產需求。

為了加快布局EUV技術及建立產能，包括英特爾、台積電、三星等三大半導體廠的先進製程大戰可說已正式展開。英特爾已宣布將投資70億美元，將在美國亞利桑那州的12吋晶圓廠Fab 42中建立支援EUV的生產線。

三星在才剛落幕的ISSCC大會中，說明將會在7奈米邏輯製程世代開始導入EUV技術，而業界透露，三星也會在2018～2019年間量產的1y奈米DRAM製程上，開始試著採用EUV技術。

至於晶圓代工龍頭台積電原本預期在5奈米世代才會導入EUV，但為了保持技術領先地位，已經說明將在7奈米量產後一年，也就是2019年，開始在部份光罩製程中採用EUV技術，5奈米世代將可大量導入EUV製程。

在三大廠全面啟動EUV微縮計畫情況下，全球半導體設備及材料廠也開始擴增產能大搶龐大商機。家登布局多年的EUV POD已在農曆年前再次通過艾司摩爾機台測試，測試結果證明家登取得關鍵技術入場門票，將為2017年營運注入成長動能。

家登表示，EUV技術是未來7奈米以下先進製程關鍵，為配合全球半導體客戶發展進程，家登同步研發相應的光罩傳載解決方案。目前通過測試最新版本的EUV POD比照艾司摩爾微粒防護的最新標準，與光罩接觸點皆為耐磨材質，能有效減少微塵粒（Particle），提供EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效能防護。

家登元月受到工作天數減少影響，單月營收年減33.5％達1.23億元，但家登指出這只是短期現象，看好營收將在2月後回穩，全年營收仍將較去年成長。家登今年營運策略採聚焦主軸，光罩傳載解決方案聚焦EUV，晶圓傳載解決方案聚焦12吋300FOUP晶圓盒等兩大產品線，對全年營運抱持樂觀看法。

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